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薄膜分析

  X射線衍射對于研究外延層和其他薄膜材料具有特殊價值。采用精密的晶格參數的測量方法,可以很準確的確定晶格的外延層及其基底。在外延器件中晶格參數匹配或不匹配是一個重要因素如磁泡存儲器的磁性石榴石薄膜,LED用摻雜砷化鎵薄膜和高速晶體管和其他重要的電子產品。對于薄膜X射線衍射的另一個應用是使用高溫衍射通過測定晶格參數隨溫度的變化來確定熱膨脹系數。

系統

  • 搖擺曲線: SmartLab?, Ultima IV
  • 倒易空間圖測量: SmartLab?, Ultima IV
  • 膜厚測量,粗糙度,密度: SmartLab?, Ultima IV
  • 反射測量: SmartLab?, Ultima IV
  • In-plane晶體結構評價: SmartLab?, Ultima IV
  • In-plane衍射: SmartLab?, Ultima IV
  • 相分析,擇優取向,畸變,殘余應力: SmartLab?, Ultima IV
  • 極圖,薄膜衍射: SmartLab?, Ultima IV
  • 混合晶體成分比例,晶格畸變: SmartLab?
  • 外延層厚: SmartLab?
  • 超晶格的周期性結構評價: SmartLab?
  • 實驗室XRR: SmartLab?, Ultima IV
  • 高功率 θ/θ測角儀系統: TTRAX III

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